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壓電掃描臺應用于納米壓印

更新時間: 2019-09-16

納米壓印是一種全新的納米圖形復制方法,實質是將傳統(tǒng)的模具復型原理應用到微觀制造領域。它是通過將刻有目標圖形的母版壓印到相應的襯底(通常是一層很薄的聚合材料)上實現圖形轉移,以完成微納米加工的光刻步驟。納米壓印技術是制作納米結構的關鍵,具有廣闊的應用前景。

利用芯明天P18.XY300二維掃描臺,可帶動鍍膜鏡片在0~300μm的平面內對讀取的圖像信息進行優(yōu)化,同時控制激光器及掃描臺,二者配合完成圖像的納米精度加工。

下圖為通過芯明天運動控制軟件操作二維壓電掃描臺,激光光刻的100μm×100μm圖標。

 

P18.XY300壓電掃描臺

 

P18.XY300為二維直線掃描臺。臺體采用機構放大設計原理,內置高可靠性壓電陶瓷,可以實現375μm的高速掃描,運動直線性好,配套芯明天大功率控制器響應時間可達5ms,通光孔徑為Ø35mm,是精密加工、半導體制造、掃描顯微等應用的不錯選擇。

 特點

·位移可達375μm/軸

·承載達3kg

·通孔直徑:Ø35mm

·閉環(huán)重復定位精度高

 

階躍時間

 

單點定位應用,P18.XY300S帶載100g負載階躍時間60ms。

技術參數

 

型號

尾綴S-閉環(huán)尾綴K-開環(huán)

P18.XY300S

P18.XY300K

單位

運動自由度

X、Y

 

標稱行程范圍(0~120V)

300或±150/軸

μm±20%

行程范圍(0~150V)

375或±187.5/軸

μm±20%

傳感器類型

SGS/-

 

通孔尺寸

Ø35

mm

閉/開環(huán)分辨率

10/5

nm

閉環(huán)線性度

0.2/-

%F.S

閉環(huán)重復定位精度

0.15/-

%F.S

俯仰/偏航/滾動

<15

μrad

推/拉力

150/150

N

運動方向剛度

X0.5/Y0.5

N/μm±20%

空載諧振頻率

X250/Y500

Hz±20%

閉/開環(huán)空載階躍時間

50/10

ms±20%

閉環(huán)空載

工作頻率

10%行程

40

Hz±20%

行程

10

承載能力

3

kg

靜電容量

21/軸

μF±20%

材質

 

重量

380

g±5%

 

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