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壓電掃描臺(tái)是中心具有通孔的壓電納米定位臺(tái)，它也是基于壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)，采用柔性鉸鏈設(shè)計(jì)，具有無(wú)機(jī)械摩擦、分辨率高等特點(diǎn)，壓電掃描臺(tái)內(nèi)部可集成高精度傳感器。產(chǎn)品主要應(yīng)用于透光精密光學(xué)器件的定位與調(diào)整、生物顯微與光學(xué)顯微成像系統(tǒng)等。

壓電掃描臺(tái)的中孔設(shè)計(jì)，從適用于小型設(shè)備（如紅外熱成像）的小通孔的壓電掃描臺(tái)到大型設(shè)備（如大口徑干涉儀）用的大通孔壓電掃描臺(tái)，具有多種中孔尺寸可選。

壓電掃描臺(tái)的運(yùn)動(dòng)方向可自由選擇，如一維X向、一維Z向、二維XY向、三維XYZ向運(yùn)動(dòng)等，壓電掃描臺(tái)的行程范圍從8μm至370μm范圍內(nèi)自由選擇。

N12壓電掃描臺(tái)

N12系列壓電掃描臺(tái)為1~3維并聯(lián)式壓電掃描臺(tái)，臺(tái)體中心方形通孔，通過(guò)采用有限元仿真分析優(yōu)化結(jié)構(gòu)，具有超高的導(dǎo)向精度、高剛性、大負(fù)載、無(wú)磨損等特點(diǎn)，平臺(tái)內(nèi)可選擇配置高性能傳感器進(jìn)行全閉環(huán)反饋，實(shí)現(xiàn)滿(mǎn)行程0.04%的重復(fù)定位精度。

芯明天N12壓電掃描臺(tái)

N12系列納米定位臺(tái)體積非常小巧，位移可達(dá)110μm。*的平行運(yùn)動(dòng)學(xué)設(shè)計(jì)原理，使得平臺(tái)可以實(shí)現(xiàn)XYZ軸高速精密運(yùn)動(dòng)。這款產(chǎn)品的應(yīng)用非常廣泛，從光學(xué)研究到工業(yè)化OEM系統(tǒng)等。

N12系列壓電掃描臺(tái)的通光孔為45×45mm。高剛度以及優(yōu)異的直線性使其成為光學(xué)、激光領(lǐng)域納米級(jí)精密定位應(yīng)用的選擇。

N12系列壓電掃描臺(tái)配置高分辨率傳感器，對(duì)位置實(shí)時(shí)檢測(cè)并反饋到壓電控制器，控制器通過(guò)PID算法調(diào)整電壓修正位移，從而實(shí)現(xiàn)高精度定位。

N12.XYZ壓電掃描臺(tái)配套芯明天E72系列模塊化控制器應(yīng)用于光學(xué)顯微成像，實(shí)現(xiàn)XYZ軸精密掃描。

N12三維技術(shù)參數(shù)

型號(hào)：N12.XYZ100S 

運(yùn)動(dòng)自由度：X、Y、Z

標(biāo)稱(chēng)行程范圍（0~120V）：80µm/軸

大行程范圍（-20~150V）：110µm/軸

傳感器類(lèi)型：SGS  

通孔尺寸：45×45mm

分辨率：7nm，typ.

閉環(huán)線性度：0.15%F.S.

閉環(huán)重復(fù)定位精度：0.1%F.S.

俯仰/偏航/滾動(dòng)：<20µrad

運(yùn)動(dòng)方向大推/拉力：20N/4N

空載階躍時(shí)間：30ms

空載工作頻率（10%行程）：30Hz

空載工作頻率（行程）：4Hz

承載能力：0.5Kg

靜電容量：1.8μF/軸

工作溫度范圍：-20~80℃

材質(zhì)：鋼、鋁

外形尺寸：85×85×26mm

重量：350g

出線長(zhǎng)：1.5m

傳感/電壓連接器：LEMO

壓電掃描臺(tái)的應(yīng)用

原子力顯微鏡

閉環(huán)納米定位掃描臺(tái)作為原子力顯微鏡的一部分，可帶動(dòng)樣品進(jìn)行高速精密運(yùn)動(dòng)，可以實(shí)現(xiàn)X、Y、Z軸280μm的掃描，分辨率為亞納米級(jí)，響應(yīng)時(shí)間可達(dá)亞毫秒。

高分辨率CCD

利用現(xiàn)有工藝水平下的CCD圖像傳感器件，獲得更高的分辨率，目前有效的方法是采用被攝物成的像與CCD圖像傳感器之間發(fā)生微小的相對(duì)位移來(lái)記錄多幅圖像，然后利用多次采集的原始圖像來(lái)合成高分辨率的圖像，壓電掃描臺(tái)用于帶載鏡片做納米級(jí)運(yùn)動(dòng)。

三維共焦顯微

三維共聚焦顯微拉曼光譜分析儀器，能在納米范圍內(nèi)測(cè)量物質(zhì)化學(xué)狀態(tài)的三維圖像。壓電物鏡驅(qū)動(dòng)器實(shí)現(xiàn)對(duì)顯微鏡在Z軸方向上的納米級(jí)在線實(shí)時(shí)調(diào)焦，XY二維壓電掃描臺(tái)實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)物高精度的二維平面位移運(yùn)動(dòng)。

激光平面干涉

Z向壓電掃描臺(tái)的作用是做納米級(jí)的微運(yùn)動(dòng)，調(diào)整待測(cè)物的位置，從而改變對(duì)應(yīng)的干涉條紋的寬度及位置，以達(dá)到更的表面測(cè)量。

納米光刻

首先計(jì)算機(jī)將BMP圖轉(zhuǎn)化為灰度圖，然后再通過(guò)控制系統(tǒng)控制二維掃描臺(tái)，帶動(dòng)鍍膜鏡片在0-300μm范圍內(nèi)對(duì)讀取的圖像信息進(jìn)行優(yōu)化，同時(shí)控制激光器及掃描臺(tái)，二者配合完成BMP圖的納米定位加工。

紅外熱成像掃描

紅外熱成像通過(guò)紅外敏感CCD對(duì)物體進(jìn)行成像，能反映出物體表面的溫度場(chǎng)。

二維壓電掃描臺(tái)的高速高精度掃描大大提高了熱成像的分辨率。